微弧氧化工藝及（jí）設備（bèi）基本原理及特點（diǎn）是：在普通陽極氧化的基（jī）礎上，利用（yòng）弧光放電增強並激活在陽極上發（fā）生的反應，從（cóng）而（ér）在以鋁（lǚ）、鈦（tài）、鎂金屬及其合金（jīn）為材料的工件表麵形成上等的強化陶（táo）瓷膜的方法。
該方法是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加（jiā）高（gāo）電壓，使工件表麵的金屬與電解質溶液（yè）相互作用，在工件表麵形成微弧放電，在高溫、電場等（děng）因素的作用下，金屬表麵形成（chéng）陶瓷膜，達到工件表麵強化、硬度大幅度提（tí）高、耐（nài）磨、耐蝕、耐壓、絕緣及（jí）抗高溫衝擊特性得到改善的目的。微（wēi）弧氧化工藝及設備是一（yī）種直接在有色金屬（shǔ）表麵原位生長陶（táo）瓷層的新技術，該技術是*近十幾年在陽極氧化基礎上發展（zhǎn）起（qǐ）來的，但兩者（zhě）在機理（lǐ）上、工藝上以及膜層（céng）性能上（shàng）都有許多不同之處。所謂等離子體就是由（yóu）大（dà）量的自由電子和離子組成，且在整體上表現為電中（zhōng）性的物質（zhì），它被稱為固態、氣態和（hé）液態以外的第四態（tài）。處（chù）於熱等離（lí）子（zǐ）態的物質（zhì）具有強的（de）導（dǎo）電性，且能量集中（zhōng），溫度較高（gāo），是一個高熱、高溫的能源（yuán）。與傳統的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結合牢固，結（jié）構致密，具有良好的耐磨、耐腐（fǔ）蝕、耐高溫衝擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。
微弧氧化工藝（yì）及設（shè）備特點
（1）微弧氧化工藝及設備大幅度地提（tí）高了材料的表麵（miàn）硬度, 顯（xiǎn）微硬（yìng）度在（zài）1000至（zhì）2000HV(維氏硬度)，*高可達3000HV,可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理後的（de）高碳鋼，高合金鋼和高速工具鋼的硬度。
（2）良好的耐磨損性能、良好的耐熱（rè）性及抗腐（fǔ）蝕性。這從根本上克服了（le）鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點。
（3）有良好的絕緣性能, 絕緣電阻可達100MΩ。
（4）溶液為環保（bǎo）型，可達到零排（pái）放標準，符合環保排放要求。
（5）工藝穩定可靠，設備工藝簡單。
（6）反應在常溫下進行，操作方（fāng）便，易於掌握。
（7）基體原位生長陶瓷膜，致密均勻，結合牢（láo）固，與基體結合力達（dá）250-300Mpa。
（8）微（wēi）弧氧化工藝及設備柔韌性（xìng）強（qiáng），陶瓷層厚30微米的鋁片彎曲成30°角，陶瓷層完好無損；陶瓷（cí）層（céng）厚100微米的鋁片彎曲斷裂後（hòu），陶瓷層（céng）不開裂、不脫落。
與（yǔ）陽極氧化技（jì）術相（xiàng）比，微弧氧化還具（jù）有下列特點：
（1）微弧氧化采用弱堿性（xìng）溶液，對周圍環境不造成汙染（rǎn），屬於清潔加工工藝和（hé）環保型表麵處理技術，微弧氧化中隻放出氫氣、氧氣，對人體無害。
（2）工藝簡單，特別對於工業樣品（pǐn）的預處理不（bú）像（xiàng）陽極氧化要求的那樣嚴格和繁（fán）雜，隻要求樣品表麵（miàn）去汙去油，不需要去除表（biǎo）麵的自然氧化層，也不需要表麵打磨。
（3）微弧氧化可（kě）以一次完成，也可以分幾次完成。特別對於氧化膜要求很（hěn）厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始。
（4）在陽極氧（yǎng）化不易成（chéng）膜的（de）某些鋁（lǚ）合（hé）金如Al-Cu、Al-Si等合金表麵（miàn），同樣可獲得性能很好的厚（hòu）膜，尤其在Al-Cu合金表麵（如（rú）Ly12合（hé）金），可以形（xíng）成高硬度的厚膜（mó），HV可達到1600以上。